FT160 Series
Benchtop XRF-analysator | Avanceret coatings XRF-analysator til elektronik
Hurtig og præcis analyse af nanoskala coatings
FT160 benchtop XRF-analysatoren er designet til at måle de mikroskopiske detaljer, der findes på nutidens printplader, halvledere og mikro-stik.
Evnen til hurtigt og nøjagtigt at måle disse fine strukturer hjælper med at øge produktiviteten og undgå kostbar omarbejdning eller kassation af komponenter.
FT160’s polykapillære optik kan måle coatings i nanoskala på strukturer mindre end 50 µm, og den avancerede detektorteknologi leverer høj nøjagtighed samtidig med kort måletid. Andre funktioner – såsom stort prøvebord, bred døråbning, højopløseligt prøve-kamera og et stort observationsvindue – gør det nemt at indlæse emner i forskellige størrelser og finde interesseområdet på et stort substrat. Nem at bruge, denne analysator integreres problemfrit i dit QA/QC-setup og advarer dig om problemer, inden de udvikler sig til en krise.
Produktfordele
Designet til mikrospots og ultratynde coatings – FT160’s optik og detektorteknologi er optimeret til selv de mindste detaljer.
Stort observationsvindue
Muliggør sikker visning af analysen på afstand.
Standardoverholdelse
Målemetoder i henhold til ISO 3497, ASTM B568 og DIN 50987.
Test af overflader
Opfylder IPC-4552B, IPC-4553A, IPC-4554 og IPC-4556.
Automatiseret funktionslokalisering
Giver hurtig prøveopsætning.
Tilpasset konfiguration
Vælg den analyzertype, der er optimeret til din applikation.
Måling af nanoskala coatings
Analyser funktioner mindre end 50 µm.
Høj kapacitet
Fordobler analysegennemløbet sammenlignet med konventionelle instrumenter.
Håndtering af store prøver
Tilpasser sig store prøver i mange forskellige former.
Robust design
Testet til langvarig brug i produktionen.
3 Versioner
| FT160 | FT160L | FT160S | |
|---|---|---|---|
| Elementområde | Al – U | Al – U | Al – U |
| Detektor | Silicon drift-detektor (SDD) | Silicon drift-detektor (SDD) | Silicon drift-detektor (SDD) |
| Røntgenrørsanode | W eller Mo | W eller Mo | W eller Mo |
| Apertur | Polykapillær optik | Polykapillær optik | Polykapillær optik |
| Aperturstørrelse | 30 µm @ 90% intensitet (Mo-rør) 35 µm @ 90% intensitet (W-rør) |
30 µm @ 90% intensitet (Mo-rør) 35 µm @ 90% intensitet (W-rør) |
30 µm @ 90% intensitet (Mo-rør) 35 µm @ 90% intensitet (W-rør) |
| XY-bord (vandring) | 400 × 300 mm | 300 × 300 mm | 300 × 260 mm |
| Største prøvestørrelse | 400 × 300 × 100 mm | 600 × 600 × 20 mm | 300 × 245 × 80 mm |
| Prøvefokusering | Fokuslaser og automatiseret fokusering | Fokuslaser og automatiseret fokusering | Fokuslaser og automatiseret fokusering |
| Mønstergenkendelse | ✓ | ✓ | ✓ |
| Software | XRF Controller | XRF Controller | XRF Controller |